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1.基本原理前道的晶圓加工包括十余道工藝，有氧化、擴散、退火、離子注入、薄膜沉積、光刻、刻蝕、化學機械平坦化（CMP）等。其中最關鍵的三類主設備是光刻機、刻蝕

半導體行業技術高、進步快，一代產品需要一代工藝，而一代工藝需要一代設備。半導體工藝設備為半導體大規模制造提供制造基礎。摩爾定律，給電子業描繪的前景，必將是

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血常規檢查是指通過對微量血液的檢測，對血液中的紅細胞、白細胞、血紅蛋白和血小板等血液系統的各項參數的質和量進行分析。一份血常規檢驗報告單內包括由紅細胞（

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